میکروپودر سیلیکا با خلوص بالا یک ماده غیرآلی-مهم است که به طور گسترده در بستهبندی مدارهای مجتمع، بسترهای الکترونیکی، سرامیکها، پوششها و مواد کامپوزیتی با کارایی بالا-استفاده میشود. مشخصات فنی آن به طور مستقیم بر عملکرد محصول و کیفیت کاربردهای نهایی تأثیر می گذارد، بنابراین ترکیب شیمیایی، خواص فیزیکی و الزامات فرآیند تولید باید به طور دقیق تعریف شوند.
الزامات ترکیب شیمیایی
محتوای دی اکسید سیلیکون (SiO2) میکروپودر سیلیکا با خلوص بالا معمولاً باید بیشتر یا برابر با 99.9٪ باشد، در برخی از برنامههای کاربردی بالا که حتی بیشتر یا مساوی 99.99٪ هستند. محتوای ناخالصی هایی مانند آهن (Fe)، آلومینیوم (Al)، کلسیم (Ca) و منیزیم (Mg) باید به شدت کنترل شود، به طور کلی نیاز به Fe کمتر از یا مساوی 50 ppm، Al کمتر یا مساوی 100 ppm، و مقدار کل ناخالصی های فلزی دیگر نباید از 20 ppm تجاوز کند. علاوه بر این، عناصر مضر مانند کلر (Cl) و گوگرد (S) باید در سطوح بسیار پایین نگه داشته شوند تا از پایداری مواد در دمای بالا یا محیط های بسیار خورنده اطمینان حاصل شود. استانداردهای مالکیت فیزیکی
توزیع اندازه ذرات میکروپودر سیلیکا با خلوص{0} بالا مستقیماً بر خواص پرکننده و روانپذیری آن تأثیر میگذارد. تجزیه و تحلیل اندازه ذرات لیزری معمولاً برای آزمایش استفاده می شود، با D50 (قطر متوسط) در محدوده 1-100 میکرومتر کنترل می شود و بر اساس الزامات برنامه تنظیم می شود. سطح ویژه معمولاً بین 10-50 متر مربع بر گرم و چگالی ظاهری از 0.4 تا 0.8 گرم بر سانتی متر مکعب است. برای اطمینان از انطباق در کاربردهایی که نیاز به کیفیت نوری یا زیبایی شناختی بالایی دارند، سفیدی محصول باید بیشتر یا مساوی 90 درصد باشد.
فرآیند تولید و آزمایش
میکروپودر سیلیس با خلوص بالا معمولاً با استفاده از سنتز شیمیایی یا خالصسازی کوارتز طبیعی تولید میشود. فرآیندهای کلیدی عبارتند از شستشوی اسیدی، کلسینه کردن در دمای بالا، آسیاب جریان هوا، و طبقه بندی دقیق. برای اطمینان از کیفیت، هر دسته تحت آنالیز ترکیب شیمیایی (مانند ICP-OES)، آزمایش توزیع اندازه ذرات، تعیین سطح ویژه (روش BET) و آزمایش محتوای ناخالصی (مثلاً ICP-MS) قرار میگیرد.
به طور خلاصه، مشخصات فنی میکروپودر سیلیکا با خلوص{{0}بالا به کنترل دقیق در ابعاد مختلف، از جمله خلوص شیمیایی، خواص فیزیکی، و فرآیندهای تولید نیاز دارد تا نیازهای سختگیرانه صنایع الکترونیک و نیمهرساناهای پیشرفته- را برآورده کند.
